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加利福尼亞大學Kyunghoon Lee第一作者--莫爾晶格和超結構的超高分辨率掃描微波阻抗顯微鏡成像

二維異質結構是由具有不同晶格矢量的原子層組成，所呈現出的新的周期性結構，被稱為莫爾晶格，從中可以產生新奇的關聯和拓撲現象。此外，莫爾超結構可由多重錯位的莫爾晶格或不均勻的應變分布產生，這為電子結構的研究提供了額外的自由度。而莫爾晶格和超結構的高分辨率成像對于其新奇物理性質的研究是至關重要的。在這里，我們利用超高分辨率掃描微波阻抗顯微鏡，在環境條件下對基于石墨烯樣品中的莫爾晶格和超結構進行分析。盡管探針尖端的總半徑約為100 nm，但其空間分辨率卻優于5 nm，可以直接顯示莫爾晶格和復合超莫爾的結構細節。我們還合成了新型超結構，例如由不同層間相互作用產生的Kagome莫爾結構。

Fig. 1 uMIM的成像機制和空間分辨率。

Fig. 2在各種基于石墨烯的莫爾條紋成像中uMIM的多功能性。

Fig. 3 tDBG和hBN云紋的超結構。

Fig. 4 tDBG/hBN中類似Kagome的莫爾條紋的超結構。

相關研究成果于2020年由加利福尼亞大學Kyunghoon Lee第一作者，發表在Sci. Adv. (https://doi.org/10.1126/sciadv.abd1919)上。原文：Ultrahigh-resolution scanning microwave impedance microscopy of moiré lattices and superstructures。

轉自《石墨烯雜志》公眾號



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